即時中心／林耿郁報導半導體業必爭的關鍵工具「光刻機」，已被中國成功破解並複製了嗎？目前傳出深圳一處高度戒備的實驗室內，已成功打造一台可產生極紫外光（EUV）的半導體光刻機原型，象徵中國距離「自主製造」尖端晶片，可能比外界預期的更加接近達標。

美國華爾街日報報導，北京曾多次要求荷蘭批准出口生產先進晶片必須的光刻機，但因為美國政府阻撓，一直未能成事。