即時中心／林耿郁報導半導體業必爭的關鍵工具「光刻機」，已被中國成功破解並複製了嗎？目前傳出深圳一處高度戒備的實驗室內，已成功打造一台可產生極紫外光（EUV）的半導體光刻機原型，象徵中國距離「自主製造」尖端晶片，可能比外界預期的更加接近達標。

民視新聞／葉為襄　黃啓豪　台北報導繼美國、日本和歐洲等國家相繼祭出晶片法案後，台灣在11/17也通過台版晶片法案，也就是產業創新條例第10條之二修正草案，預計明年元旦就會上路，也將給予高科技業，投資抵減營所稅25%優惠，購置先進設備再減5%。