外媒報導，中國已開始製造自主研發的浸潤式深紫外光（DUV）曝光機，試圖打破荷蘭巨頭艾司摩爾（ASML）長期壟斷的局面。這批關鍵設備預計今年內交付給中芯國際等中國晶片大廠，消息一出導致ASML股價下跌。

根據彭博社（Bloomberg）報導，美國商務部長 Howard Lutnick 近期向荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾（ASML）高層表達嚴重關切，懷疑該公司最頂尖的極紫外光（EUV）曝光機可能已流入中國，恐已違反美國主導的對中出口管制禁令。