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  • 美質疑ASML頂尖EUV曝光機流入中國 恐違反出口禁令
    17 minutes ago

    美質疑ASML頂尖EUV曝光機流入中國 恐違反出口禁令

    根據彭博社(Bloomberg)報導,美國商務部長 Howard Lutnick 近期向荷蘭半導體設備巨頭艾司摩爾(ASML)高層表達嚴重關切,懷疑該公司最頂尖的極紫外光(EUV)曝光機可能已流入中國,恐已違反美國主導的對中出口管制禁令。
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