美質疑ASML頂尖EUV曝光機流入中國　恐違反出口禁令

根據路透社（Reuters）引述彭博社（Bloomberg）的最新報導，知情人士透露，美國商務部長 Howard Lutnick 在與艾司摩爾（ASML）高層進行的一系列會議中，直接表達了美方的擔憂。美方懷疑，ASML 旗下最先進的極紫外光（EUV）曝光機，可能已經透過某種管道流入中國市場。

極紫外光（EUV）曝光機是製造高階先進製程晶片不可或缺的關鍵設備。為了防堵中國取得先進半導體技術，美國近年來聯合荷蘭等盟友，對中國實施嚴格的半導體設備出口管制。若這款頂尖設備確實流入中國，將嚴重衝擊美國主導的出口限制政策。

目前 ASML 與美國商務部尚未對此報導做出正式回應。這起事件也讓美中之間在半導體領域的科技戰，再度掀起波瀾。